巨大3Dデータの描画速度を最大5倍高速化、 描画性能を格段に向上した「XVL Studio Ver.13.1」を出荷開始
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2014年10月22日、東京 (日本) – ラティス・テクノロジー株式会社は、大容量データに対する描画性能を格段に向上したDMU（デジタルモックアップ）製品「XVL Studio」の最新版 Ver.13.1(以下、新バージョン)を、10月 22日にリリースします。 ラティスの軽量3Dデータ「XVL」は、世界トップ水準の基本性能を持つことから、そのソリューションは自動車、航空機、造船や列車といった大容量3Dデータを扱う製造業で幅広く採用されてい...
