巨大3Dデータの描画速度を最大5倍高速化、 描画性能を格段に向上した「XVL Studio Ver.13.1」を出荷開始

2014年10月22日、東京 (日本)　–　ラティス・テクノロジー株式会社は、大容量データに対する描画性能を格段に向上したDMU（デジタルモックアップ）製品「XVL Studio」の最新版 Ver.13.1(以下、新バージョン)を、10月 22日にリリースします。

ラティスの軽量3Dデータ「XVL」は、世界トップ水準の基本性能を持つことから、そのソリューションは自動車、航空機、造船や列車といった大容量3Dデータを扱う製造業で幅広く採用されています。これらの業界では、3D 設計が定着し、大量の部品を精密な3Dモデルで表現するようになったため、デジタルモデルを利用した設計や工程の検証おいて、さらなる巨大データをストレスなく扱える描画パフォーマンスが求められています。
 
そこで新バージョンでは、軽量3DフォーマットXVLの最新形式U-XVL Ver.11(*1)に対応し、最大5倍の描画性能を実現しました(*2)。これは特にCADで数GB、XVL形式では数百MB程度の大容量データで有効です。例えば、グラフィックボードのnVIDIA Quadro2000搭載端末であれば最大で約5倍、Intel HD Grachics 2000以降の搭載端末であれば最大で約4倍の高速な描画速度を実現します。これにより、巨大な3Dデータを利用した設計のデザインレビューや、組み付け工程の検証といった作業性を格段に向上させることができます。
 
ラティスでは、最新のU-XVL Ver.11にXVL製品群を順次対応させ、さらなる機能と性能向上を実現することで、大規模なアセンブリ産業の設計と製造の効率化に貢献する考えです。
 
*1 U-XVL Ver.11.0は、10月22日現在、新バージョンでのみ表示およびファイル保存時に生成可能
*2 ラティス調べ。前バージョンとの比較

【製品価格など、本件に関するお問い合わせ先】
企業名：ラティス・テクノロジー株式会社
担当者名：福原
TEL：03-3830-0333
Email:casual3d@lattice.co.jp


提供元：ValuePress!プレスリリース詳細へ