株式会社エー・アンド・デイ（本社：東京都豊島区、代表取締役執行役員社長：森島 泰信）グループの半導体検査・測定装置メーカー、株式会社ホロン（本社：東京都立川市、代表取締役社長：張 皓）の新本社工場が完成いたしました。

株式会社エー・アンド・デイ（本社：東京都豊島区、代表取締役執行役員社長：森島 泰信）グループの半導体検査・測定装置メーカー、株式会社ホロン（本社：東京都立川市、代表取締役社長：張 皓）の新本社工場が完成いたしました。

【1．新本社工場建設の目的】

お客様からの需要に応えるため、生産体制の拡大と開発・製造環境の充実をはかることを第一の目的としています。特にクリーンルームを従来の3倍のスペースに拡充し、従来の製造能力は年間10基ほどでしたが、これを年間20基超に引き上げ、次世代機の開発スペースや装置のプレゼンテーションエリアも併設しました。
また、社員が働く環境を改善し、優秀な人材を獲得するために、駅（西武拝島線 武蔵砂川駅）の近隣に建設いたしました。

【2．ホロンの主な製品】

ホロンは独自の電子ビーム技術を活かして、半導体デバイスの製造に必要な回路図の微細な回路パターンの寸法測定装置を製造・販売しています。現在、中長期に渡りお客様の先端需要に応えるためにエー・アンド・デイとシナジー効果を発揮し次世代機の開発を行っています。

＜主力製品情報＞

（1）フォトマスク用CD-SEM「ZX」
● ホロンがフォトマスク市場で長年培ってきた独自の高分解能技術、チャージ対策技術をさらに進化させて、sub-10nm最先端デバイス用マスク向けに開発した装置
● ナノパターンの高速・高精度計測が可能
● 収差補正技術をさらに改良し、高SNRイメージを取得
● 低真空技術によるチャージフリーSEM画像を取得、高精度計測が可能
● 多彩なアプリケーション（多点計測・輪郭抽出・2D測定・欠陥レビュー・3D表示）

（2）欠陥レビューSEM「LEXa-10」
● フォトマスク用CD-SEMで定評のある低真空技術の採用により、チャージ抑制を行いながらナノの世界を観察・分析する欠陥レビュー装置
● 低真空技術によるフォトマスク（絶縁物）の全面観察および元素分析
● 低加速電圧による高分解能、低ダメージ分析
● 光学式欠陥検査装置とのリンク機能
● 自動欠陥レビューナビゲーション（ADR）機能

ホロンは、用途に応じて各種の半導体検査・測定装置を製作し、お客様のニーズにお応えしています。
詳しくはこちらをご覧ください。
http://www.holon-ltd.co.jp/


＜会社概要＞
会社名　　　：株式会社エー・アンド・デイ
本店所在地　：〒170-0013　東京都豊島区東池袋3-23-14
代表者　　　：代表取締役執行役員社長　森島 泰信
設立　　　　：1977年5月
資本金　　　：6,388百万円
市場情報　　：東証1部　7745
事業内容　　：電子計測器、産業用重量計、電子天びん、医療用電子機器、試験機、
　　　　　　　工業計測機器、その他電子応用機器の研究開発・製造・販売

会社名　　　：株式会社ホロン
新本社工場　：〒190-0032　東京都立川市上砂町5-40-1
代表者　　　：代表取締役社長　張 皓
設立　　　　：1985年5月
市場情報　　：JASDAQスタンダード　7748
資本金　　　：1,764百万円（2021年3月末現在）
事業内容　　：半導体回路の寸法測定および検査装置の開発、製造、販売、保守サービス

＜本リリースPDF＞
https://www.aandd.co.jp/pdf_storage/whatsnew/2021/0820_holon.pdf

＜本件に関するお問い合わせ先＞
株式会社エー・アンド・デイ
TEL：03-5391-6135　　販売促進部　　高妻 淳史
https://www.aandd.co.jp

株式会社ホロン
TEL：042-537-7990　　総務部　　飯嶋 優樹
 http://www.holon-ltd.co.jp/


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